Vakum ultraviyole lazer küçük bir ışın noktasına odaklanabiliyorsa, mezoskopik malzemelerin yapısını incelemek ve nano nesneleri daha iyi hassasiyetle yapmak için kullanılabilir.
Bu hedefe ulaşmak için Çinli bilim adamları, uzun odak uzaklıklarında mikron altı odağı elde edebilecek 177 nanometre VUV lazer sistemi icat ettiler.
"Light Science & Applications" (LightScience&Applications) dergisinde yayınlanan bir araştırma sonucu, araştırmacıların uzun bir odak uzaklığında (———45mm) olan küresel sapma içermeyen bir şerit plaka kullanarak 177nmVUV lazer tarama fotoelektrik emisyon mikroskop sistemi geliştirdiklerini göstermektedir.<>
Şu anda ARPES için kullanılan uzamsal çözünürlüğe sahip DUV lazer kaynağı ile karşılaştırıldığında, 177nmVUV lazer kaynağı ARPES ölçümünün daha büyük bir momentum alanını kaplamasına yardımcı olabilir ve daha iyi enerji çözünürlüğüne sahiptir.
VUV lazer sistemi ultra uzun odak uzaklığına (-45mm), mikron altı uzamsal çözünürlüğe (-760nm), ultra yüksek enerji çözünürlüğüne (-0,3meV) ve ultra yüksek parlaklığa (-355MWm-2) sahiptir. Fotoelektrik emisyon elektron mikroskobu (PEEM), açıyla çözülmüş fotoelektron spektrometresi (ARPES), derin ultraviyole lazer Raman spektrometresi gibi bilimsel araştırma araçlarına doğrudan uygulanabilir.
Şu anda sistem, yarı-tek boyutlu topolojik süper iletken TaSe3, manyetik topolojik yalıtkanlar (MnBi2Te4) (Bi2Te3) m ailesi ve benzeri gibi çeşitli yeni kuantum malzemelerinin ince enerji bandı özelliklerini ortaya çıkardı.